電路光刻膠

Ⅳ 光刻膠的作用

光刻開始於一種稱作光刻膠的感光性液體的應用。圖形能被映射到光刻膠上，然後用一個developer就能做出需要的模板圖案。光刻膠又稱光致抗蝕劑，是以智能管感光材料，在光的照射與溶解度發生變化。
光刻膠成份
光刻膠通常有三種成分：感光化合物、基體材料和溶劑。在感光化合物中有時還包括增感劑。根據光刻膠按照如何響應紫外光的特性可以分為兩類：負性光刻膠和正性光刻膠。
1、負性光刻膠
主要有聚肉桂酸系（聚酯膠）和環化橡膠系兩大類，前者以柯達公司的KPR為代表，後者以OMR系列為代表。
2、正性光刻膠
主要以重氮醌為感光化合物，以酚醛樹脂為基體材料。最常用的有AZ-1350系列。正膠的主要優點是解析度高，缺點是靈敏度、耐刻蝕性和附著性等較差。
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光刻膠的特點
1、在光的照射下溶解速率發生變化，利用曝光區與非曝光區的溶解速率差來實現圖形的轉移；
2、溶解抑制/溶解促進共同作用；
3、作用的機理因光刻膠膠類型不同而不同；
光刻膠的主要技術參數
1、解析度：區別矽片表面相鄰圖形特性的能力，一般用關鍵尺寸來衡量解析度。形成的關鍵尺寸越小，光刻膠的解析度越好。
2、對比度：指光刻膠從曝光區到非曝光區過渡的陡度。對比度越好，形成圖形的側壁越陡峭，解析度越好。
3、敏感度：光刻膠上產生一個良好的圖形所需一定波長的最小能量值（或最小曝光量）。單位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2。光刻膠的敏感性對於波長更短的深紫外光（DUV）、極深紫外光（EUV）等尤為重要。
4、粘滯性/黏度：衡量光刻膠流動特性的參數。粘滯性隨著光刻膠中的溶劑的減少而增加；高的粘滯性會產生厚的光刻膠；越小的粘滯性，就有越均勻的光刻膠厚度。
5、粘附性：表徵光刻膠粘著於襯底的強度。光刻膠的粘附性不足會導致矽片表面的圖形變形。
6、抗蝕性：光刻膠必須保持它的粘附性，在後續的刻蝕工序中保護襯底表面。
7、表面張力：液體中將表面分子拉向液體主體內的分子間吸引力。光刻膠應該具有比較小的表面張力，使光刻膠具有良好的流動性和覆蓋。
8、存儲和傳送：能量可以激活光刻膠。應該存儲在密閉、低溫、不透光的盒中。同時必須規定光刻膠的閑置期限和存貯溫度環境。
光刻膠的主要作用
1、將掩膜板上的圖形轉移到矽片表面的氧化層；
2、在後續工序中，保護下面的材料（刻蝕或離子注入）。

Ⅳ 光刻膠的作用原理和用途

光刻膠的作用原復理和用途制
光刻膠的作用是通過紫外光的照射，使光刻膠固化，用溶劑洗掉未固化的樹脂，然後將無樹脂地方的銅板腐蝕掉，形成電路。光刻膠又叫做電子油墨，其成分包括光固化樹脂和熱固化樹脂。光固化樹脂可以和紫外光作用固化，從而避免被溶劑洗掉，熱固化樹脂可以通過加熱進一步固化，完全固化後的樹脂，可以對電爐起良好的保護作用。

Ⅵ 光刻膠應用於很多領域，那麼led用的和lcd用的，還有集成電路用的，觸摸屏用的，都有什麼區別呢

最主要是根據關鍵尺寸選擇不同種類的光刻膠，主要區別就是解析度不一樣。

Ⅶ 光刻膠的分類

光刻膠的技術復雜，品種較多。根據其化學反應機理和顯影原理，可分負性膠內和正性膠兩類容。光照後形成不可溶物質的是負性膠；反之，對某些溶劑是不可溶的，經光照後變成可溶物質的即為正性膠。利用這種性能，將光刻膠作塗層，就能在矽片表面刻蝕所需的電路圖形。基於感光樹脂的化學結構，光刻膠可以分為三種類型。 液體中將表面分子拉向液體主體內的分子間吸引力。光刻膠應該具有比較小的表面張力（Surface Tension），使光刻膠具有良好的流動性和覆蓋。

Ⅷ 光刻膠是大規模集成電路印刷電路版技術中的關鍵材料，某一光刻膠的主要成分如圖所示，下列有關說法正確的

A．由結構簡式可知，發生加聚反應生成高分子，單體為CH₂=CHOOCCH=CHC₆H₅，其分子式為C₁₁H₁₀O₂，故版A正確；
B．C=C及苯環均與氫權氣發生加成反應，則1mol該物質可消耗4nmolH₂，故B錯誤；
C．含-COOC-，在鹼性溶液中發生水解，不能穩定存在，故C錯誤；
D．由高分子的主鏈只有2個C可知，發生加聚反應，故D錯誤；
故選A．