A. 怎样提取电路板刻蚀液中的铜，萃取的方法可以吗
使用CWL-M型离心萃取机萃取电路板刻蚀液中铜（高萃取段：当铜离子含量低于40-45g/L时会萃取氨）的工艺条件。通过改变萃取相比、萃取级数、萃取方式等因素，观察其对铜萃取率的影响，并在同一条件下对离心萃取机和萃取槽的性能进行了对比，最终得出：CWL-M型离心萃取机在三级逆流、铜原液∶萃取剂=1∶9，负载有机相的水洗为两级逆流，反萃取为两级逆流时效果最好。
B. 为什么在刻制印刷电路板时,要氯化铁（Fecl3）溶液作为“腐蚀液”
应该是这样吧：印刷电路板中的铜会和三价铁也就是氯化铁（Fecl3）发生反应 Cu+2FeCl3=CuCl2+2FeCl2 这样Cu就可以溶解了 这是高中常考的一个方程式 要牢记哦!
C. 白色长袖沾到了电子厂电路板的蚀刻药水，成分是酸性氯化铜或者碱性氯化铜 呈片状蓝绿色该怎么处理 谢谢
用苏打水洗，氯化铜是强酸弱碱盐，水溶液电离成酸性，苏打水是强碱弱酸盐，水溶液电离成碱性，两者会发生中和反应。苏打水也是生活中比较容易找到的
D. 电路板上的原件烧灼印怎么处理
电路板在使用过程中抄可能会因为电流过袭大，灰尘进水等短路，造成原件损伤进而出席烧灼印，一般情况下可以通过酒精擦拭，散热硅脂涂抹在发热处即可解决。
同样电器在使用过程中要定期进行保养，以确保电路板工作在良好的状态和减少电路板的故障率。使用中的电路板的保养分如下几种情况：
1、半保养：
⑴每季度对电路板上灰尘进行清理，可用电路板专用清洗液进行清洗，将电路板上灰尘清洗完毕后，用吹风机将电路板吹干即可。
⑵观察电路中的电子元件有没经过高温的痕迹，电解电容有没鼓起漏液现象，如有应进行更换。
2、年度保养：
⑴对电路板上的灰尘进行清理。
⑵对电路板中的电解电容器容量进行抽检，如发现电解电容的容量低于标称容量的20%，应更换，一般电解电容的寿命工作十年左右就应全部更换，以确保电路板的工作性能。
⑶对于涂有散热硅脂的大功率器件，应检查散热硅脂有没干固，对于干固的应将干固的散热硅脂清除后，涂上新的散热硅脂，以防止电路板中的大功率器件因散热不好而烧坏。
E. 线路板蚀刻液、微蚀液硝酸液等提铜回收工艺
本公司专业从事线路板厂微蚀液、蚀刻液、硝酸铜等回收循环再生系统，及周边设备材料加工制作。有一批专业从事PBC行业多年的骨干技术人员，深入PCB行业，熟悉PCB生产工艺流程，为客户提供满意周到的技术服务。
再生循环设备简介
PCB行业制作工序中产生大量微蚀液、蚀刻液、硝酸铜等含有不同浓度的铜等金属，回收价值高，且外排废水中也会有少量的铜重金属存在，如不能合理的进行环保处理，一方面造成资源的严重浪费，另一方面重金属排放后渗入至土壤及水源之中，即会对我们赖以生存的自然环境及自身的健康产生严重的污染和危害。
近年来随着环保意识的增强，政府法规对于印制电路板工厂排放废水的各项指标限制日趋严谨，因此，印制电路板产业废水处理为达到铜离子的稳定达标排放标准，均以大量加药的手段来获得解决。但传统的加化学药剂，操作成本高，且造成大量铜污泥产生及排放废水导电度过高（溶解性盐类造成），导致废水回用难度加大或者根本无法回收使用的后续问题。
我们公司所研发的微蚀刻循环再生设备、蚀刻液再生循环设备、硝酸铜铜回收设备，是一项专门为PCB（印制电路板）行业的微蚀、蚀刻等工序而设计，使该工序成为清洁生产、节能减排，并大幅度降低生产成本的清洁生产设备。微蚀刻液循环再生设备在使用中不但使微蚀刻工序基本实现污染零排放，并产出纯度高、价值高的电解金属铜。
一、微蚀水再生循环系统
微蚀液包括过硫酸钠/硫酸体系和双氧水/硫酸体系，在近几年广泛的运用在PCB之表面处理制程，例如：沉铜（PTH)制程，电镀制程、内层前处理、绿油前处理、OSP处理等生产线。
我们公司目前对过硫酸钠/硫酸和双氧水/硫酸两种体系的微蚀工序研发设计了不同的循环再生设备。
无论是过硫酸钠/硫酸体系还是双氧水/硫酸体系,我司设备均可把饱和微蚀液处理再生返回客户生产线继续使用，回用时，不改变客户原生产工艺参数；在运行我们公司设备时可不停机亦可更换药水，从而达到稳定生产的目的。这两种体系再生设备设备不仅可以节省约30%的物料成本，还大大降低废水处理成本，且可以电解出金属铜。
二、蚀刻液再生循环系统
在电子线路版（PCB）蚀刻过程中，蚀刻液中的铜含量渐渐增加。蚀刻液要达到最佳的蚀刻效果，每公升蚀刻液需含120至180克铜及相应分量的蚀刻盐（NH4CI）及氨水（NH3）。要持续蚀刻液中上述各种成份的浓度最佳水平，蚀刻用过后的（以下称[用后蚀刻液]）溶液需不断由添加的药剂所取缔。
本系统将大量原本需要排放的用后蚀刻液再生还原成为可再次使用的再生蚀刻液。只需极少量的补充剂及氨水，补偿因运作时被带走而失去的部份。从而取代蚀刻子液，既可达到蚀刻工艺的要求，又可节省生产成本。
蚀刻液再生循环系统有酸性、碱性两大系统，两大系统又可分为萃取法、直接电解法。可将大量原本需要排放的用后蚀刻液还原再生成为可再次使用的再生蚀刻液。从而减少生产废液的排放，回用降低生产成本，且可提取出高纯度电解金属铜。
三、硝酸铜铜回收系统
在电子线路版（PCB）削铜过程中，削挂缸中的铜含量渐渐增加，铜离子浓度80-100克/左右时就处于饱和状态，削铜能力大大减弱，则需换缸更换新的硝酸溶液进行削铜。传统硝酸铜溶液处理方式是将废液给指定的单位处理，并需付给一定的处理费用，不仅资源没有得到合理使用还增加处理成本。
采用硝酸铜铜回收设备后，可将铜离子处理至1g/L，不仅可以提取出高纯度金属铜，且处理过后的硝酸废液还可以供给环保池使用，大大减小了环保的处理成本。
F. 线路板酸性蚀刻的反应原理
线路板的蚀刻，其原理就是利用金属和溶液的氧化还原反应达到蚀刻的目的。不管什么系列的蚀刻液，至少都包括氧化剂和酸性添加剂。氧化剂是发生氧化还原反应的必要条件，而酸性介质却是保证蚀刻持续进行的充分条件。
在蚀刻过程中,氯化铜中的Cu2+具有氧化性,能将板面上的铜氧化成Cu1+,其反应如下：蚀刻反应：Cu＋CuCl2→Cu2Cl2
G. 电路板腐蚀液对人体有伤害吗
有的。电路板的腐蚀液有很多种，最常见的有氯化铵型腐蚀液（业内叫酸性腐蚀液）和碱性腐蚀液。
酸性腐蚀液主要由盐酸和氯化铜组成。而碱性腐蚀液主要由氨水和氯化铜组成而这几种化学物质都有一定的毒性，对皮肤和呼吸道及内脏都有腐蚀性及毒性。
H. 电路板蚀刻液提取铜有没有气体产生
蚀刻液主要有氯化铜液�1�0三氯化铁液�1�0碱性蚀刻液�1�0硫酸/过氧化氢（双氧水）系蚀刻液。
《氯化铜蚀刻液》
�1�1氯化铜蚀刻液由氯化铜(CuCl2�1�12H2O)+盐酸(HCl)+过氧化氢(H2O2)+水(H2O)组成。
铜的溶解反应�1�0蚀刻液的再生反应如下式所示�1�7
Cu+CuCl2→2CuCl
2CuCl+2HCl+H2O2→2CuCl2+2H2O
対蚀刻速度来说、盐酸以及氯化亚铜（CuCl）浓度比氯化铜（CuCl2）浓度的影响更大。
盐酸浓度高时、蚀刻速度加快�1�0氯化亚铜的浓度高时、蚀刻速度変慢�1�7
�1�1氯化铜蚀刻液的特征：(a)价格低(b)添加氧化剂可得到安定的蚀刻速度(c)废液中所含的铜浓度比较高(≒130g/L),处理费用比较便宜(d)蚀刻速度较慢(e)盐酸的气味强、需要排气装置�1�7
�1�1氯化铜蚀刻液例 CuCl2：230～350g/L�1�0CuCl：0～7g/L�1�0HCl：80～120g/L
温度：40～50℃�1�0比重：1.25～1.28
《三氯化铁蚀刻液》
�1�1三氯化铁蚀刻液是由三氯化铁(FeCl３)+盐酸(HCl)+水(H2O)组成的。
有的溶解反应如下式所示�1�7
Cu+2FeCl3→CuCl2+2FeCl2
�1�1三氯化铁蚀刻液在氯化铁水解后、生成氢氧化铁和盐酸�1�0胶体的氢氧化铁什使溶液呈茶褐色
通常蚀刻液中加入少量的盐酸(5%为止)、以抑制不溶性沉淀的产生�1�7
�1�1三氯化铁蚀刻液的特征：(a)价格低(b)蚀刻系数良好(c)蚀刻速度较慢(20～25μm/分)(d)铜的
溶解量低(40～60g/L)(e)液体的再生困难(f)蚀刻后需要盐酸酸洗（防止対基板的汚染）�1�7
�1�1三氯化铁蚀刻液例 FeCl3：37%�1�0 FeCl2：0.3%�1�0 HCl：0.5%
温度：40～50℃�1�0比重：40±2°波美度(比重1.36～1.41)
《碱性蚀刻液》
�1�1碱性蚀刻液的主要成分是有铜氨络离子。有的溶解反应如下式所示�1�7
Cu+Cu(NH3)4Cl2→2Cu(NH3) 2Cl
4Cu(NH3) 2Cl+4NH4OH+4NH4Cl+O2→4Cu(NH3) 4Cl2+6H2O
络离子Cu(NH3) 2Cl难溶�1�0不具有蚀刻能力、故需通过氧化使之再生转化为最初的络离子 Cu(NH3)4Cl2�1�7 再生是由补给液中的氨水与氯化铵以及喷淋时溶进蚀刻液中的氧气进行�1�7対应于蚀刻液中的有溶解量、补充以氨水与氯化铵为主成分的水溶液、使各成分的浓度保持一定的话、即可进行连续蚀刻作业�1�7
�1�1碱性蚀刻液的特征：(a)锡铅电镀�1�0锡电镀层表面的変色小�1�0(b)蚀刻速度快(35～45μm/分)�1�0(c)蚀刻系数良好�1�0(d)铜的溶解量大(135～170g/L)�1�0(e)铜可以回收�1�0 (f)蚀刻液价格高�1�0(g)氨的气味大、需要排气设备�1�0(h)容易产生液渣�1�0(I)废液処理困难�1�7
�1�1碱性蚀刻液的例子
NH3：8.2～9.5N�1�0Cu－：150～160g/L�1�0Cu：135～145g/L�1�0比重：1.200～1.208�1�0 pH：8.0～8.5
《硫酸/过氧化氢（双氧水）蚀刻液》
�1�1以硫酸与过氧化氢（双氧水）为主成分。有的溶解反应如下式所示�1�7
Cu+H2O2+H2SO４→CuSO４+2H2O
过氧化氢（双氧水）在铜离子存在时会自行分解。为抑制过氧化氢（双氧水）的自行分解、蚀刻液中添加有过氧化氢（双氧水）的安定剂。
�1�1硫酸/过氧化氢（双氧水）蚀刻液的特征：(a)蚀刻掉的铜以硫酸铜形式存在、可以回收、所以可能进行封闭式循环连续蚀刻作业�1�0(b)废液处理容易�1�0(c)与铜浓度无关、蚀刻速度穏定�1�0(d)锡铅电镀层表面的変色小�1�0(e)蚀刻速度较慢�1�0(f) 蚀刻液价格高。
�1�1硫酸/过氧化氢（双氧水）蚀刻液的例
H2SO４（98wt%）：18～20vol%�1�0H2O2（50wt%）：10～12vol%�1�0 Cu：22～45g/L 看你是哪种蚀刻液
I. 近年来，我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放．蚀刻液主要有酸性的（HCl-H2
（1）FeCl3型酸性废液中含有Fe3+和Fe2+，Fe3+具有氧化性，可与Fe反应，离子方程式为Fe+2Fe3+=3Fe2+，Fe2+具有还原性，可与Cl2反应，离子方程式为2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-，
故答案为：Fe+2Fe3+=3Fe2+；2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-；
（2）H2O2在酸性条件下具有强氧化性，可氧化Cu生成CuCl2，反应的化学方程式为Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O，
故答案为：Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O；
（3）HCl-H2O2型蚀刻液含有Cu2+，在碱性条件下生成Cu（OH）2，可与弱还原剂生成Cu2O，选项中葡萄糖和甲醛都可，但葡萄糖资源广，无害，最合适，故答案为：③；
（4）当温度高于80℃时，Cu2（OH）2CO3易分解生成黑色CuO，导致产品颜色发暗，
故答案为：温度高会使产物部分分解产生黑色的氧化铜导致产品颜色发暗；
（5）Cu2+易与NH3发生反应生成配合物Cu（NH3）4Cl2，促使溶液中Cu（NH3）4Cl2结晶析出，故答案为：促使溶液中Cu（NH3）4Cl2结晶析出．
J. 做电路板的腐蚀液是什麽
腐蚀电路板的是三氯化铁溶液，2FeCl3+Cu=CuCl2+2FeCl2，在残液中加铁置换出铜，Fe+CuCl2=Cu+FeCl2