集成电路尺寸

『壹』 集成电路中的90nm/12英寸是什么意思

90nm是指集成电路中的复最制小特征尺寸，反映了加工工艺的精度水平。
12英寸是指制造集成电路所采用的大圆片的直径。
特征尺寸越小，则集成度就越高，性能也就越优良。
大圆片的直径越大，则加工能力就越强，生产率也就越高。

『贰』 集成电路中的线宽和特征尺寸有什么不同

一个特定工艺的特征尺寸就是该工艺里允许的最小线宽，也就是最小沟道长度专(L)。
比如65nm工艺的属特征尺寸就是65nm，就是说设计的MOS管的L最小是65nm，而整个版图设计里不会出现比65nm更小的线宽。

『叁』 目前世界上最新的集成电路特征尺寸是多少

俺已经退休，了解的不很准确，估计最先进的特征尺寸大约是十几纳米，大规模生产的特征尺寸大约二十几纳米。

『肆』 超大规模集成电路有多大

集成电路的集成度从小规模到大规模、再到超大规模的迅速发展，关键就在于集成电路的布图设计水平的迅速提高，集成电路的布图设计由此而日益复杂而精密。中国的集成电路产业起步于20世纪60年代中期，现在已经初具规模，形成了产品设计、芯片制造、电路封装共同发展的态势。 集成电路的广泛应用，极大地推动了社会经济的发展，促进了信息时代的加速到来，并正在深刻改变着人类的生产生活。现在，集成电路的技术水平和产业规模已经成为衡量一个国家科技发展水平、综合国力强弱和产业结构高级化程度的公认标准之一，集成电路产业也成为关系到国家安全和国民经济发展的战略性产业之一。各发达国家和诸多新兴国家及地区纷纷投入巨额资金，不惜血本地加入这一竞争激烈的领域。 研制开发一种新的集成电路，需要在布图设计方面耗费大量的人力、物力和财力。然而，集成电路布图设计的可复制性决定了先进的布图设计容易被他人复制，侵权人可以轻而易举地以较小的代价进行仿制。内这就严重损害了布图设计研制开发者的利益，从而也影响了集成电路新产品的研制开发。从20世纪70年代起，集成电路盗版问题迅速增长。据集成电路行业的巨头英特尔公司的统计，集成电路的盗版可以节省90%以上的开发成本和一年半左右的开发时间。盗版厂商以低廉的成本复制集成电路的布图设计，极大的挫伤了前期投入昂贵的研发费用的正规开发商的积极性。盗版问题已经成为集成电路产业发展的一个严重障碍。为了维护集成电路研制开发者的智力劳动成果，保障集成电路研制生产的正常开展，世界各国以及相关的国际组织纷纷寻求从知识产权角度加强对集成电路的布图设计的保护。 一、保护模式：渐进与统一 世界各国对于集成电路布图设计的保护通常采用三种模式：专利法保护、版权法保护以及专门立法保护。但在实践中，通过专利制度或者版权制度保护集成电路布图设计都存在一定的不足，通过专门立法加以保护成为目前世界各国包括国际条约的普遍选择。 （一）专利法保护 部分国家将集成电路的布图设计作为一种可专利的技术方案，通过向集成电路的技术设计方案授以专利权的方法来进行保护。 仅从理论上分析，集成电路的布图设计实质上是一种图形设计方案，如果根据该设计生产出的集成电路产品符合专利法所规定的条件，的确可以获得专利权授权。对于被授予专利权的集成电路产品未经专利权人许可，他人不得制造、销售、使用和进口，否则必须承担侵权的法律责任。然而，大部分集成电路布图设计都属于对于已知电路的重新设计，在设计的时候必须遵守工程设计的基本原理、方法和规范，还必须采用相当数量通用性的常规设计；上述这些知识已进入公有领域，所以，集成电路的布图设计往往缺乏专利授权必须的新颖性。此外，集成电路在专利法要求的创造性方面也显得力不从心。集成电路不论其规模有多大，其布图设计的中心思想都是实现电路集成的功能。为实现这一目的，布图设计将电路图中的多个元器件合理地分布在多个叠层中，并使其互连，形成三维配置。因而，同类集成电路产品的布图设计方案不会有太大的变化，研制开发不过是在提高集成度、节约材料、降低能耗方面下功夫，很少具备实质性的差异，因而也很难达到专利法对创造性的要求。何况，布图设计也只是产品的一种中间形态，没有独立的产品功能。换言之，布图设计不同于专利法中能够直接运用的技术方案。此外，集成电路技术更新换代相当快，技术的生命周期非常短，而专利申请与审批的时间却比较长，这也不利于集成电路技术及时获得专利法的保护。 鉴于通过专利制度保护集成电路的布图设计存在难以逾越的障碍，除需对《专利法》进一步完善外，对集成电路布图设计的保护还需其他法律部门共同调整。 （二）版权法保护 也有部分国家将集成电路的布图设计作为一种图形作品，将其纳入版权法中作品的范围，通过版权法给予保护。典型的例子是美国1984年制定的《半导体芯片保护法案》，该法案明确采用类似版权的保护方式对集成电路进行保护，并续接到美国版权法，并将其保护客体称为“掩膜作品”，而不是简单地称为“掩膜”。根据该法案将“掩膜作品”定义为，一套已固着或已编码的相关图象，它们(A)具有或表示半导体芯片产品各层预定出现或不出现金属、绝缘或半导体材料形成的三维空间图形；并且(B)此套图象之间的关系是每个图象在半导体芯片中都有一种形式的平面图形 。可见，在美国集成电路作为一种单独的作品种类已经被纳入了广义版权法的保护范围。 在传统版权法的理念中，版权法的保护对象是文学、艺术和科技作品，其中也包含工程设计、产品设计图纸等图形作品。集成电路布图设计图纸具备了独创性的要求，即受到版权法的保护，这自然是题中应有之意。但是，单纯以版权法保护集成电路，在保护力度上显得很吃力，很难提供充分有效的保护。 从布图设计的作用来看，它与享有版权的作品明显不同。作品的作用主要是供人欣赏，而布图设计及含布图设计的集成电路是一种电子产品，布图设计的作用不是供人欣赏，而是为了执行电子电路的功能。也就是说，一般作品不具有功能性，而布图设计则具有鲜明的功能性。如果不具备电子电路的功能，就不成其为布图设计。因此，从功能性出发，不难发现布图设计与版权法中的图形作品存在本质上的不同。 即使将版权法上的作品扩大解释为包括布图设计在内，也不能有效的保护布图设计。作品保护的方式主要通过制止他人未经权利人许可的复制，而此种方式对布图设计并没有实际的意义。通常，针对集成电路布图设计的侵权并不是将他人的布图设计简单的复制下来，而是将他人的布图设计不法的应用到自己的集成电路中去，这个过程已远非版权法上的“复制”能够概括的。所以，国外关于集成电路的立法以及相应的国际条约中都没有使用“”一词，而是使用了“reproce”。虽然，中国的立法和相关的学术论文中，我们仍然使用“复制”这一词语，但这种“复制”已经不再是版权法意义上的复制了。 况且，版权法只保护作品思想的表达形式，不保护作品思想本身，因此很难通过版权法保护集成电路布图设计中的技术创新和进步。此外，版权的保护期限过长，一般为作者创作完成后的有生之年外加死后50年。而集成电路技术更新换代的时间非常快，给予太长的保护期限容易造成技术的垄断，影响集成电路技术的借鉴与推广，限制了先进的技术在全社会范围内的共享。因此，单纯的采用版权法来保护集成电路显然也不是一个明智的选择。

『伍』 请问集成电路现在最小的特征尺寸是多少

估计最先进的特征尺寸大约是十几纳米，大规模生产的特征尺寸大约二十几纳米。

『陆』 半导体器件的特征尺寸是指什么

在集成电路领域，特征尺寸是指半导体器件中的最小尺寸。在CMOS工艺中，特征尺寸典型代表为“栅”的宽度，也即MOS器件的沟道长度。一般来说，特征尺寸越小，芯片的集成度越高，性能越好，功耗越低。

特征尺寸（沟道长度）的缩小虽然有明显的好处，但是也会带来一系列负面效应，统称为“短沟道效应”。例如，场效应管强调的是栅极电压的控制作用，但是在沟道短到一定程度时，源与漏之间会存在漏电流，即使撤掉了栅极电压，也可能关不断MOS管。

(6)集成电路尺寸扩展阅读

半导体器件（semiconctor device）通常利用不同的半导体材料、采用不同的工艺和几何结构，已研制出种类繁多、功能用途各异的多种晶体二极，晶体二极管的频率覆盖范围可从低频、高频、微波、毫米波、红外直至光波。

三端器件一 般是有源器件，典型代表是各种晶体管（又称晶体三极管）。晶体管又可以分为双极型晶体管和场效应晶体管两类。

根据用途的不同，晶体管可分为功率晶体管微波晶体管和低噪声晶体管。除了作为放大、振荡、开关用的 一般晶体管外。

还有一些特殊用途的晶体管，如光晶体管、磁敏晶体管，场效应传感器等。这些器件既能把一些环境因素的信息转换为电信号，又有一般晶体管的放大作用得到较大的输出信号。

此外，还有一些特殊器件，如单结晶体管可用于产生锯齿波，可控硅可用于各种大电流的控制电路，电荷耦合器件可用作摄橡器件或信息存 储器件等。在通信和雷达等军事装备中，主要靠高灵敏度、低噪声的半导体接收器件接收微弱信号。

随着微波通信技术的迅速发展，微波半导件低噪声器件发展很快，工作频率不断提高，而噪声系数不断下降。微波半导体 器件由于性能优异、体积小、重量轻和功耗低等特性，在防空反导、电子战等系统中已得到广泛的应用。

『柒』 集成电路的特征尺寸

线宽

『捌』 什么是集成电路的特征尺寸

集成电路的特征尺寸一般是指最小的加工尺寸；对于MOSFET，通常是指沟道长度。

『玖』 目前集成电路最小的关键尺寸

据说是10nm 由于量子效应的出现 可能会朝着量子集成电路方向发展

『拾』 集成电路尺寸越小,集成度越高对不对

不对。应该是集成电路晶片的单位面积的元件（器件）数越大，集成度越高。